日本酸素HD、日本・韓国・中国で半導体材料ガス製造能力を倍増
ジボラン（B2H6）ガスの製造能力を2023年末までに順次増強
日本酸素ホールディングスは、日本、韓国、中国で電子材料ガスであるジボラン（B2H6）ガスの製造能力を 2023 年末までに順次増強することを決定した。増強の内容は、日本（大陽日酸）が 2023 年末、韓国（Matheson Gas Products Korea）が 2022 年上期、中国（揚州大陽日酸）が 2023 年末を完成時期とし、各拠点で製造能力を倍増する。
ライフスタイルの変化、5G、IoT の普及によるデータ通信量の増加や自動車向け半導体需要の増加などを背景に、半導体デバイスの需要はますます増加している。日本酸素HDが製造するジボランガスは、ロジック（演算素子）、メモリ（記憶素子）から、ディスクリート（個別半導体）まで、幅広い半導体デバイスの製造において不可欠な材料であり、半導体メーカー各社の製造能力の増強に合わせてその需要が急激に増加している。
日本酸素HDは、顧客である半導体メーカーの需要の伸びに対応すべく、これまでも”トータルエレクトロニクス”の戦略に基づき、日本国内のみで製造していたジボランガスを、韓国、中国でも製造を開始し、その供給能力を増強してきた。今後も、特にアジア地域における需要の伸長が見込まれるため、さらなる投資を進めることで半導体メーカーの需要増に応え、グローバルサプライチェーンの強化も進める。
