ギガフォトンが最新ArF液浸光源機種「GT80A」を出荷

半導体リソグラフィの最先端ノード量産で高い生産性をサポート

　半導体リソグラフィ用光源メーカーのギガフォトンは2024年3月27日、新型のArF液浸露光装置用光源「GT80A」を出荷したと発表した。

　最先端デバイス製造では、微細化と共に高い生産性が求められる。これらの最先端デバイスでは、ウエハに転写される露光パターン、特にEPEに対する要求が求められると同時に、高い生産性を両立する必要がある。

　その中で、光源に対して、EPEに直接的影響を及ぼすCD LER/LWR(Line Edge Roughness/Line Width Roughness)低減を実現することにより、量産現場でのイールド向上を実現すると共に、さらなる高生産性を提供することが求められている。

　ギガフォトンの新型ArF液浸光源「GT80A」は、新開発モジュールにより、発振周波数を12.5%向上させることに成功した。これにより、スペックルコントラストをGT65A比で36％低減し、LER/LWR(Line Edge Roughness/Line Width Roughness)をさらに低減する。プロセスイールドのさらなる改善を実現すると同時に、最先端ノード量産での高い生産性をサポートする。

　ギガフォトンの浦中克己 代表取締役社長兼CEOは「GT80Aは、最先端半導体の安定的で歩留まりのよい生産をゴールに、特に最先端のプロセスノードの生産性向上のため市場に投入されました。ギガフォトンは、半導体市場のリソグラフィにおける更なるイノベーションのため、今後も活動し続けます」とコメントしている。