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半導体

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SiCエピタキシャルウェハー
2022年9月7日 / 最終更新日時 : 2022年9月8日 ガスペディア 半導体

昭和電工 200mm SiCエピウェハーのサンプル出荷を開始

自社製SiC単結晶基板を活用、SiCパワー半導体の普及・拡大に貢献  昭和電工は、SiC(炭化ケイ素)パワー半導体に使用されるSiCエピタキ シャルウェハー(以下、SiCエピウェハー)*1について、国内メーカーとして初の […]

安城ガスセンター
2022年9月5日 / 最終更新日時 : 2022年9月5日 ガスペディア 半導体

昭和電工 韓国の半導体製造用高純度ガス貯蔵施設の敷地を倍増

 昭和電工の100%子会社である韓国昭和化学品株式会社は、韓国での半導体製造用高純度ガスの旺盛な需要に応えるため、韓国安城(アンソン)市にある貯蔵施設の能力拡張工事を実施した。世界的な物流問題が顕現するなか、製品の安定供 […]

2022年7月8日 / 最終更新日時 : 2022年7月8日 ガスペディア 半導体

大陽日酸、JFE サンソセンター福山工場にレアガスのクリプトン・キセノン製造装置を新たに設置

半導体製造プロセス用ガスとして安定供給の確保、2024年4月稼働予定  大陽日酸は、JFE スチール株式会社(社長:北野嘉久)と合弁で運営する株式会社 JFE サンソセンター(社長:上原正弘)福山工場にレアガスであるクリ […]

2022年6月29日 / 最終更新日時 : 2022年6月29日 ガスペディア 半導体

昭和電工が半導体用高純度ガス事業で SK Inc.と北米協業検討覚書を締結

アメリカでの現地生産化の検討を本格開始  昭和電工と韓国の SK Inc.は6 月 29 日、半導体の製造工程で使われる高純度ガス事業の北米協業検討覚書(MOU)を締結した。2 社共同で北米での半導体用高純度ガス現地生産 […]

SEPURAN®Noble
2022年5月18日 / 最終更新日時 : 2022年5月19日 ガスペディア ヘリウム

レアガス回収用分離膜セプランⓇノーブルが、エア・ウォーター・プラントエンジニアリング設計・製作のヘリウム回収・精製ユニットに採用

半導体製造工程中に排気されるヘリウムを効率的に回収・濃縮する中空糸膜モジュール  ポリプラ・エボニック株式会社(本社:東京都新宿区、代表取締役社長:金井 産(かない ただし))は、同社が日本で販売するレアガス回収用分離膜 […]

2022年4月26日 / 最終更新日時 : 2022年4月26日 ガスペディア 半導体

エア・ウォーター・マテリアルが台湾で半導体関連ガス事業を手掛ける台湾宏廣新技股份有限公司に出資

三井物産出資、グローバルで半導体メーカーへのガス供給事業を強化  エア・ウォーターグループの半導体関連製品、化学工業薬品等の専門商社であるエア・ウォーター・マテリアル株式会社(以下、AWマテリアル)は、2022年4月8日 […]

MOCVD装置「FR2000-OX」
2022年4月20日 / 最終更新日時 : 2022年4月20日 ガスペディア イノベーション

大陽日酸が東京農工大学へ 酸化ガリウム(Ga2O3)用 MOCVD 装置を設置、稼働開始

 大陽日酸は、国立大学法人東京農工大学の熊谷義直教授の研究室に研究開発用 MOCVD装置を設置した。設置されたのは型式FR2000-OXのMOCVD装置で、処理能力は2 インチ径 1 枚。β-Ga2O3基板上への高性能電 […]

2022年4月20日 / 最終更新日時 : 2022年4月20日 ガスペディア ヘリウム

ウクライナ危機で半導体サプライチェーンに材料価格高騰の懸念

SEMIジャパンが日経エレクトロニクスと共同で緊急調査を実施  SEMIジャパン(所在地:東京都千代田区、代表:浜島 雅彦)は、ウクライナ危機に起因する資源の高騰・ひっ迫などエレクトロニクス産業への影響について、日経BP […]

大陽日酸MOCVD
2022年4月7日 / 最終更新日時 : 2022年4月7日 ガスペディア イノベーション

理化学研究所と共同で大陽日酸製MOCVD装置でのAlGaN 系深紫外LED 226nm の EL 発光を実証

 大陽日酸は、理化学研究所の平山秀樹氏らとともに、大陽日酸製MOCVD 装置を用いて、短波長 226nm で AlGaN(窒化アルミニウムガリウム)系深紫外 LED が EL発光することを実証した。  AlGaN 系深紫 […]

6インチ(150mm)のSiC単結晶基板
2022年3月28日 / 最終更新日時 : 2022年3月30日 ガスペディア 半導体

昭和電工がSiCパワー半導体向け6インチ単結晶基板の量産を開始

 昭和電工株式会社(社長:髙橋 秀仁)は、SiC(炭化ケイ素)パワー半導体に使用されるSiCエピタキシャルウェハー(以下、SiCエピウェハー)*1の材料である、6インチ(150mm)のSiC単結晶基板(以下、SiCウェハ […]

2022年3月20日 / 最終更新日時 : 2022年3月20日 ガスペディア 半導体

エア・リキード、国内に半導体向け超高純度産業ガスプラントを建設

段階的に総額約3億ユーロを投資、4つの最新鋭ガスプラントを建設し、毎年15億Nm3超の窒素・⾼純度ガスを⽣産  エア・リキードは、エレクトロニクス分野における主要なマーケット・リーダー2社と超⾼純度キャリアガスの⻑期供給 […]

ダイヤモンド上に作製することに よる放熱性の向上効果
2022年3月18日 / 最終更新日時 : 2022年3月19日 ガスペディア 半導体

ダイヤモンドに接合された窒化ガリウムを熱加工し、トランジスタ作製に成功

エア・ウォーター、大阪市立大学大学院、東北大学、物質・材料研究機構の研究グループ。シリコンより放熱性が向上 本研究のポイント ダイヤモンドに接合された窒化ガリウム(GaN)※1を熱加工し、トランジスタ※2作製に成功。 作 […]

6インチテストウエハ上に成膜した酸化ガリウム薄膜
2022年3月1日 / 最終更新日時 : 2022年3月1日 ガスペディア イノベーション

大陽日酸など、世界で初めてHVPE法で6インチウエハ上への酸化ガリウム成膜に成功

パワーデバイスの低コスト化と次世代EVの省エネ化に貢献  大陽日酸は、国立大学法人 東京農工大学、株式会社ノベルクリスタルテクノロジーと共同で、HVPE 法による6 インチウエハ上の酸化ガリウム成膜に世界で初めて成功した […]

2022年2月17日 / 最終更新日時 : 2022年2月17日 ガスペディア 半導体

ギガフォトン、台湾の国立研究機関へKrFエキシマレーザーを納入

ICパッケージ技術研究用に、加工用途向けエキシマレーザー「G300K」を採用  半導体リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社(本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己)は、加工用途向けKrFエキ […]

2022年2月17日 / 最終更新日時 : 2022年2月17日 ガスペディア イノベーション

大陽日酸とアドマテックス、アンモニア-純酸素燃焼を用いた球状シリカ製造技術を開発

アンモニア燃焼で粉体溶融・球状化システムの「CERAMELTⓇ」をカーボンフリー化  大陽日酸と株式会社アドマテックス(社長:安部 賛)は、酸素燃焼を用いた粉体溶融・球状化システム「CERAMELTⓇ」とアンモニア燃焼技 […]

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ヘリウム・希ガス・カルシウムカーバイド輸入統計(2025年3月分)
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