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大陽日酸、JFE サンソセンター福山工場にレアガスのクリプトン・キセノン製造装置を新たに設置

半導体製造プロセス用ガスとして安定供給の確保、2024年4月稼働予定

 大陽日酸は、JFE スチール株式会社(社長:北野嘉久)と合弁で運営する株式会社 JFE サンソセンター(社長:上原正弘)福山工場にレアガスであるクリプトン・キセノンの製造装置を新たに設置することを決定した。2024年4月稼働を予定する。

 レアガス(クリプトン・キセノン)は大型空気分離装置における酸素・窒素・アルゴン製造時の副産物として採取されるため、大型空気分離装置の少ない日本においては、大半を輸入に頼っている。

 需要面では主にエレクトロニクス・照明・宇宙・省エネルギー分野等で利用されており、近年、世界的に需要が増加する一方、供給はタイト化しているのが現状になる。また、日本国政府は、これらレアガスを半導体製造プロセス用ガスと認識し、安定供給確保のための対策を早急に講じる必要のある物資としている。

 大陽日酸は株式会社大分サンソセンターでレアガスを製造しているが、こうした需給環境および政府の方針を鑑み、顧客に安定的にレアガスを供給すべく国内生産を増強し、サプライチェーンの強靭化を図るため、新たにJFE サンソセンター福山工場にレアガス製造装置を設置する。

新規レアガス製造装置の概要

株式会社 JFE サンソセンター概要

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