2015年12月4日 / 最終更新日時 : 2019年2月24日 ガスペディア Ｍ＆Ａ エア・ウォーター、大同エアプロダクツ・エレクトロニクスを完全子会社化 エア・ウォーターとエア・プロダクツ＆ケミカルズ（以下「エア・プロダクツ」）は、両社の合弁会社である大同エアプロダクツ・エレクトロニクス株式会社（以下「ＤＡＰ」）について、エア・プロダクツが保有する全株式をエア・ウォータ […]
2015年10月27日 / 最終更新日時 : 2019年2月24日 ガスペディア イノベーション 大陽日酸、名古屋大学へMOCVD 装置納入 大陽日酸は、2014 年にノーベル物理学賞を受賞した国立大学法人名古屋大学天野浩教授の研究室に研究開発用 MOCVD 装置他、周辺設備を納入する。納入時期は2016 年 1 月予定。 名古屋大学では、2015年 10 […]
2014年11月5日 / 最終更新日時 : 2019年3月21日 ガスペディア Ｍ＆Ａ エア・ウォーターグループ、電子機器部品仕入・製造・販売のセルコ社へ資本参加 エア・ウォーターグループは、２０１４年１１月４日付けで、電子機器部品の仕入・販売ならびに回路ユニットの開発・提案を行うセルコへ資本参加した。これにより、エア・ウォーターグループの情報電子材料事業を構成する電子材料専門商 […]
2014年11月4日 / 最終更新日時 : 2019年3月21日 ガスペディア 半導体 台湾のＬＥＤ製造大手Epistar Corporationに大陽日酸製ＭＯＣＶＤ装置を納入 大陽日酸は、ＬＥＤの世界トップメーカである台湾のEpistar Corporationに、量産型ＭＯＣＶＤ装置を納入した。 Epistar Corporationに今回納入したＭＯＣＶＤ装置『ＵＲ２５Ｋ』は、大陽日酸 […]
2014年10月8日 / 最終更新日時 : 2019年3月23日 ガスペディア イノベーション 米国政府系研究機関Sandia National Laboratoriesに大陽日酸製ＭＯＣＶＤ装置納入 大陽日酸と米国子会社の Matheson Tri-Gas, Inc.(社長 スコット・カルマン、以下 MTG)は米国の政府系研究機関である Sandia National Laboratories に大陽日酸製の MO […]
2014年6月30日 / 最終更新日時 : 2019年3月23日 ガスペディア 半導体 大陽日酸とインガスコ・インク社が ＴＩ社からSupplier Excellence Award を受賞 大陽日酸と、フィリピン現地子会社のINGASCO,INC.（以下、INGASCO。社長：Raymond M Chu）は、米国 Texas Instruments社より、Supplier Excellence Award […]
2013年10月9日 / 最終更新日時 : 2019年3月24日 ガスペディア イノベーション 大陽日酸、名古屋工業大学と共同研究契約締結 大陽日酸は、国立大学法人名古屋工業大学と２０１３年10月1日付で「大口径 Si 基板上の GaN の成長技術及びデバイス評価技術に関する研究」の共同研究契約を締結した。本共同研究は、大陽日酸が名古屋工業大学の「窒化物半 […]
2013年10月2日 / 最終更新日時 : 2019年3月24日 ガスペディア イノベーション 岩谷産業、新コンセプトによる静電気除去システム開発「エリア除電システム」でクリーンルームの消費電力を大幅低減 岩谷産業は、電場(電界)を利用したエリア除電システムを開発し、販売を開始した。この技術は、これまでのワーク(製品)に帯びる静電気を除去するという概念を払拭、作業空間自体を、静電気を発生させない空間にするという画期的なも […]
2013年5月20日 / 最終更新日時 : 2019年3月31日 ガスペディア 半導体 世界初、大面積 8 インチ SiC on Si基板の量産技術開発に成功し生産販売開始 エア・ウォーターは、パワー半導体や LED（発光ダイオード）向け下地基板として、世界で初めて高品質な SiC（シリコンカーバイト）基板を最大８インチまで生産できる技術を開発し、量産体制を整えた。これは安価な Si（シリ […]
2013年4月2日 / 最終更新日時 : 2019年3月31日 ガスペディア Ｍ＆Ａ エア・ウォーター、電気・電子材料専門商社の阿部電材へ資本参加 エア・ウォーターは、2013 年 4 月 1 日付で、電気・電子材料の専門商社である阿部電材へ資本参加した。出資比率は発行済株式の90％（エア・ウォーターグループ）。今後、阿部電材が有する自動車・電動機向けを中心とした […]
2008年12月3日 / 最終更新日時 : 2021年1月10日 産業ガス・医療ガス 半導体 岩谷産業と京大、プラズマレスで高速異方性エッチングや平坦化加工技術を開発 京都大学松尾准教授と岩谷産業は共同で、プラズマレスで半導体やMEMS向け高速異方性エッチングや平坦化加工を実現する「ClF3ガスクラスターエッチング」技術を開発した。 ■本技術の原理 本技術は、ガスを事前に放電させず […]
